一、铜管靶纯度等级与核心应用场景

1、4N级（99.99%）‌

应用‌：半导体引线框架、高导电材料‌。

特点‌：杂质总含量≤100ppm，适用于对纯度要求不苛刻的工业场景。

2、5N级（99.999%）‌

应用‌：磁控溅射靶材、超导接头、量子器件‌。

特点‌：杂质≤10ppm，满足7nm以下制程的芯片制造需求‌。

3、6N级（99.9999%）‌

应用‌：极紫外光（EUV）反射镜、核物理探测器‌。

特点‌：杂质≤1ppm，用于超纯场景如高精度光学镀膜‌。

二、磁控溅射工艺的纯度选择

7nm以下制程‌：需5N或6N级铜靶，金属杂质控制在ppb级别‌。

关键指标‌：间隙元素（O、S、P）≤5ppm，避免形成脆性相影响薄膜质量‌。

三、选择建议

工业级应用‌：4N级（如核反应堆包壳材料）‌。

高端半导体/光学‌：优先5N-6N级，确保溅射薄膜的导电性与均匀性‌。